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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
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GK100桌面微型紫外光刻機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：桌面微型紫外光刻機(jī)，專為微米級(jí)圖案制作而設(shè)計(jì)，旨在保障圖形轉(zhuǎn)移精度，其緊湊的體積將移形換影置于桌面之上，為操作提供了便利與精準(zhǔn)。 產(chǎn)品型號(hào)：GK100 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2024-06-13 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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M-150和P-150韓國(guó)Mask Aligner光刻機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。 產(chǎn)品型號(hào)：M-150和P-150 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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L-100和M-100韓國(guó)Mask Aligner光刻機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。 產(chǎn)品型號(hào)：L-100和M-100 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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MPEM-1600掩膜曝光光刻機(jī)Mask Aligner 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*荷蘭光刻機(jī)（掩膜曝光光刻機(jī)Mask Aligner ），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。 產(chǎn)品型號(hào)：MPEM-1600 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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MEMA-800光刻機(jī)Mask Aligner 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*荷蘭光刻機(jī)（光刻機(jī)Mask Aligner），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。 產(chǎn)品型號(hào)：MEMA-800 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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MSMA-1200M光刻機(jī)Mask MSMA 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*荷蘭光刻機(jī)（光刻機(jī)Mask MSMA），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域?？蛻羧缑绹?guó)航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦大學(xué)等等。 產(chǎn)品型號(hào)：MSMA-1200M 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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MMA16光刻機(jī)Aligner MMA 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*荷蘭（光刻機(jī)Aligner MMA16），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域?？蛻羧缑绹?guó)航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦 產(chǎn)品型號(hào)：MMA16 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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NXQ4000系列NXQ Mask Alignment光刻機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*美國(guó)恩科優(yōu)NXQ Mask Alignment光刻機(jī)，是quanqiu*的光刻系統(tǒng)，在光刻領(lǐng)域有超過(guò)35年的經(jīng)驗(yàn)，quanqiu售出1000多套設(shè)備，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。 產(chǎn)品型號(hào)：NXQ4000系列 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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NXQ400-8NXQ掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*美國(guó)恩科優(yōu)N&Q系列光刻機(jī)（Mask Aligner)，是*的光刻系統(tǒng)，在光刻領(lǐng)域有超過(guò)35年的經(jīng)驗(yàn)，售出1000多套設(shè)備，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。 產(chǎn)品型號(hào)：NXQ400-8 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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NXQ800-6NXQ光刻機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*美國(guó)NXQ光刻機(jī)（Mask Aligner），是*的光刻系統(tǒng)，在光刻領(lǐng)域有超過(guò)35年的經(jīng)驗(yàn)，已售出1000多套設(shè)備，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。 產(chǎn)品型號(hào)：NXQ800-6 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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